AC-SEM - спектроскопический эллипсометр
AC-SEM - это высококлассный исследовательский спектроскопический эллипсометр, использующий передовую технологию поляризационной модуляции для одновременного измерения толщины и оптических постоянных (n, k) пленок с точностью до ±0,01 нм.
- Спектральный диапазон: 190 – 2100 нм.
- Угол падения: 40 – 90°, ручная регулировка с точностью 5°.
- Источник света – ксеноновая лампа.
- Диаметр пятна: 1 – 3 мм.
- Время измерения: 1 с.
- Диапазон измерения толщины: 0,1 нм – 5 мкм.
AC-SEM — это исследовательский спектроскопический эллипсометр, предназначенный для прецизионного анализа нанометровых тонких пленок . Прибор использует передовую технологию поляризационной модуляции, что позволяет ему одновременно измерять толщину и оптические постоянные материалов с исключительной точностью. Устройство идеально подходит для решения широкого круга задач в области материаловедения, физики полупроводников, оптики и других смежных дисциплин, где критически важны точность и достоверность данных.
Благодаря широкому спектральному диапазону от 190 до 2100 нм, ES-Primo способен анализировать различные типы материалов, обеспечивая высокую гибкость для исследовательских нужд . Прибор демонстрирует рекордную точность измерения толщины до ±0,01 нм и оптических постоянных (n, k) до ±0,001, что удовлетворяет требованиям самых сложных экспериментов . Скорость измерений составляет всего 1 секунду на точку, а высокая повторяемость (0,005 нм) гарантирует надежность получаемых результатов.
AC-SEM находит применение в различных областях:
- Полупроводниковая индустрия: измерение толщины ультратонких слоев в современных транзисторных структурах, таких как high-k диэлектрики, FinFET и 3D NAND.
- 2D-материалы: определение количества слоев и толщины графена, дисульфида молибдена и других перспективных материалов с поддержкой картографирования большой площади.
- Оптические покрытия: прецизионный контроль толщины и оптических постоянных просветляющих, отражающих и фильтрующих покрытий.
- Биоматериалы: изучение толщины и свойств биомембран, слоев адсорбированных белков и субстратов для клеточных культур с возможностью проведения in-situ измерений.
- Новая энергетика: анализ функциональных слоев в солнечных элементах, литиевых батареях и топливных элементах.
- Фундаментальная физика: исследование диэлектрических функций, зонной структуры и плазмонных резонансов, поддержка измерений при переменных температурах.
Ключевые особенности:
-
Диапазон измерений от 1 нм до 3 мм, что покрывает различные прикладные задачи.
Точность измерений до 0,05 нм с сохранением высокого уровня стабильности. - Время измерения в одной точке менее 1 секунды, поддерживается режим непрерывного измерения.
- Оптическое неразрушающее измерение.
- Поддержка анализа многослойных пленочных структур с одновременным измерением.
- Модульная конструкция для удобной интеграции, поддержка OEM-кастомизации.
| Параметр | Значение | Ед. измерения | ||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| Модель | AC-SEM UV | AC-SEM | AC-SEM NIR | AC-SEM UVX | AC-SEM IRX | |
| Длины волн | 190 - 1000 | 380 - 1000 | 950 - 1700 | 190 - 1700 | 380 - 1700 | нм |
| Угол падения | 45-90 | ° | ||||
| Диапазон измерения толщины | 0.01 нм – 15 мкм | 0.01 нм – 15 мкм | 10 нм – 50 мкм | 0.01 нм – 50 мкм | 0.01 нм – 50 мкм | |
| Точность (SiO₂ на Si) | ± 1.5 Å или 0.2% | ± 2 Å или 0.2% | ± 5 Å или 0.2% | ± 1.5 Å или 0.2% | ± 2 Å или 0.2% | |
| Статическая повторяемость 1σ | 0.1 Å или 0.01% | 0.1 Å или 0.01% | 0.3 Å или 0.03% | 0.1 Å или 0.01% | 0.1 Å или 0.01% | |
| Размер пятна |
Стандартный: 2 мм Опционально: 200 мкм |
|||||
|
Длительность одного измерения |
~10 | сек | ||||
| Источник света | Галогеновая + дейтериевая лампа | Галогеновая лампа | Галогеновая лампа | Галогеновая + дейтериевая лампа | Галогеновая лампа | |
| Диаметр образца | 1 - 200 и более | мм | ||||
| Материалы |
Библиотека из 200 материалов. Поддержка различных дисперсионных моделей, таких как: Коши, Коши-Урбаха, Лоренца, Селлмейера, гармонический осциллятор, Тауц-Лоренца, Друде, Гаусса, модель эффективной среды (EMA), мультиосциллятор и др. |
|||||
- Производство полупроводников. Контроль толщины покрытий пластин, определение точки окончания травления.
- Оптические покрытия. Контроль толщины антиотражающих плёнок, высокоотражающих плёнок и фильтров.
- Дисплейные панели. Измерение толщины тонких плёнок для ЖК-дисплеев, OLED и сенсорных экранов.
- Фотоэлектрическая промышленность. Измерение толщины тонких плёнок солнечных элементов.
- Научные исследования. Исследования в области материаловедения и производства нанопленок.
- Гибкая электроника. OLED, тонкоплёночные солнечные элементы и гибкие устройства.
