ГлавнаяМероприятияРоссийский форум «Микроэлектроника 2026»

Российский форум «Микроэлектроника 2026»

28 Сентября 2026

Приглашаем вас посетить Российский форум «Микроэлектроника 2026», который пройдет с 28 сентября по 2 октября на федеральной территории «Сириус».

Ждем вас на стенде №49 компании «Специальные Системы. Фотоника».

Микроэлектроника банер2.png

Российский форум «Микроэлектроника» — одна из крупнейших отраслевых площадок, объединяющая разработчиков, производителей, поставщиков и потребителей электронной компонентной базы и радиоэлектронных систем. Тематика форума охватывает развитие микро- и радиоэлектроники, новые технологические решения, электронную компонентную базу, программно-аппаратные комплексы и смежные направления. Программа включает научные и деловые мероприятия, а также масштабную выставочную экспозицию.

В рамках деловой и выставочной программы вы сможете:

  • Посетить профильные доклады наших экспертов.
  • Обсудить свои задачи с техническими специалистами компании.
  • Увидеть оборудование в действии и протестировать отдельные решения на своем волокне.

Оборудование и решения

Посетители нашей демозоны смогут детально изучить технические характеристики и возможности оборудования по ключевым направлениям форума, в том числе:

Сварка PM-волокна с контролем PER

Одночастотные ультрафиолетовые и синие лазеры для фотолитографии и других высокоточных задач

  • Длина волны от 190 нм до 488 нм. Специальные версии на 193 нм, 257,3 нм и 248 нм.
  • Средняя мощность от 10 мВт до 5 Вт.
  • Новые типы внутрирезонаторного преобразования.
  • Высокая геометрическая стабильность пучка.
  • Устойчивость к внешним вибрациям и отсутствие скачков моды.
  • Прецизионная ширина спектральной линии.
  • Увеличенный срок официальной гарантии.
  • Наличие сервисного центра на территории РФ и ЕАЭС.

На стенде будет представлен образец лазера Fex-Laser — вы сможете ознакомиться с оборудованием, оценить качество исполнения и обсудить возможные варианты применения с нашими специалистами.

Системы фемтосекундной 3D нанопечати, безмасковой фотолитографии и микрообработки

  • Полностью интегрированные системы для быстрого прототипирования и компактного производства.
  • Минимальные размеры структур (XY) ≤ 100 нм, разрешение 300 нм, минимальные размеры структур (Z) 350 нм, разрешение 500 нм, точность (XYZ) ≤ 50 нм.
  • Скорость обработки вокселей 40 млн точек/с (для 100 нм), сетка 3D размещения 20 нм – 20000 нм.
  • Специальные версии для технологии соединения на базе фотонной проволоки (PWB) в области интеграции фотонных чипов, биосовместимых материалов.
  • Автоматическая система корректировки ошибок, объективы 100Х; 20Х; 2X.
  • Поддержка форматов BMP, PNG, TIFF, DXF и GDSII.
  • Система многоуровневой виброизоляции.
  • Оперативная техническая поддержка.

Тепловизоры для тестирования печатных плат и микропроцессоров

  • Выявление тепловых аномалий до 500°C.
  • Частота кадров до 125 Гц для контроля быстрых процессов.
  • Сменные объективы с фокусировкой.
  • Пространственное разрешение 28 мкм.
  • Термочувствительность 40 мК.
  • Отечественное ПО для анализа измерений.

На стенде вы сможете ознакомиться с тепловизионной системой для контроля печатных плат и микроэлектроники компании Теккноу и обсудить её применение с нашими специалистами.

Высокоточное радиочастотное и оптическое измерительное оборудование

  • Решение для радиочастотных измерений, тестирования и диагностики электрооптических и оптоэлектронных устройств.
  • Анализ и тестирование волоконно-оптических систем и фотонных интегральных схем.
  • Измерение и анализ спектральных характеристик оптических систем.
  • Анализаторы спектра (OSA) всегда есть в наличии на складе. Минимальные сроки поставки!

Пространственные модуляторы света (SLM)

  • LCoS или DMD технологии.
  • Фазовая или амплитудная модуляция.
  • Длины волн от УФ (363 нм) до ИК (2000 нм).
  • Разрешение до 4096 x 2240 пикселей.
  • Максимальная частота кадров 180 Гц (LCoS) или 27 995 Гц (DMD).
  • Размер пикселя от 3,6 мкм.
  • Продвинутое ПО для управления.

3D оптические профилометры

  • LED источник белого света (технология WLI: PSI, VSI).
  • Съемка высокочувствительной КМОП камерой 5 Мп.
  • Высокоскоростной пьезосканер с широким диапазоном сканирования.
  • Разрешение по вертикальной оси: 0,001 нм.
  • Среднеквадратичная повторяемость при измерении кремниевой пластины по методике ИСО 25178-2:2014 в лабораторных условиях составляет 0,002 нм.
  • Специализированные объективы с большой числовой апертурой.
  • Низкий центр тяжести установки для эффективной виброизоляции.
Мы будем благодарны Вам за предоставление информации о дате и времени встречи на мероприятии с целью планирования рабочего графика наших специалистов.

До встречи на форуме!


 

Возврат к списку


Мой заказ